測定学において “トレーサビリテイ” と は、ある測定結果、あるいは一連の測定結果 は、国際的に認知された標準規格と既知の、 有効な、そして信頼のおける形で結びつき、 特定の測定機関が十分に実証された、連続性 のある完全なる資料であると認めていること を意味します。

以下のメソッドは PSI トレーサビリテイ,主に米 国規格統一委員会、米国標準技術研究所 (NIST) に関 するものです。

1．米国標準技術研究所 (NIST) の主要取扱標準物質 (SRM) による測定ツールや計測装置の較正。

2．米国標準技術研究所 (NIST) メソッドおよび特定器 具を使用した測定と認証作業。

3．確立されている科学的原則と自然界における普遍数による測定と分析。

4．不自然な結果はNISTの研究所に送られ、較正および認証作業が行われる。

5．業界基準に準拠した較正。米国材料試験協会(ASTM)、あるいは米国規格協会(ANSI)/ 米国標準研究所会議 (NCSL) が認める規格Z540.1メソッドなど、業界の標準的方法、慣例、手順、および定義を厳密に遵守した較正。

このメソッドは、綿密な検査と測定方法により“コンセンサス・トレーサビリテイ”と規定されるものを提供いたします。このプロトコルと方法論は専門家グループにより立ち上げられ、研究室間での比較作業、統計分析を受けます。

ほとんどの場合、例えば、超薄型膜の厚さ基準やニトリド(窒化物)の基準のように、新しい主要取扱標準物質(SRM) はこのようにして設定されます。

もっとも理解されているメソッドは間違いなく、メソッド1でしょう。この方法では、研究室は米国標準技術研究所 (NIST) あるいは他の世界的に認知された機関より主要取扱標準物質(SRM) を入手し、測定装置較正の一次基準として使用します。

PSI 膜厚標準は、多くの場合、上記メソッドのうち、少なくとも4つの組み合わせにより、トレースすることができるようになります。PSI は社内測定器の較正および監査に米国標準技術研究所(NIST)の主要取扱標準物質(SRM) に準拠した素材を使用しています。言い換えれば、PSI は国標準技術研究所 (NIST) の主要取扱標準物質 (SRM) を二次基準の基礎作りと設定に使用しているのです。また PSI 基準は、米国公認機関による試験所認定プログラム (NVLAP) 国標準技術研究所 (NIST) が認定する国際標準化機構(ISO)/ 国際電気標準会議 (IEC) 17025 を取得しています。PSI は米国内で認められた較正研究所なのです。研究所コードは 200669-0 です。

様々な理由により、偏光解析法は二次基準を作るうえで、もっとも信頼できる正確な計測技術です。

1．国標準技術研究所 (NIST) が膜厚の主要取扱標準物質 (SRM) を作成するうえで使用する技術である。国標準技術研究所 (NIST) の測定方法を正確に再現するとき、比較精度により、研究評価用偏光解析器は簡単に設定できる (AOI-入射角と波長)。

2．偏光の変化測定において、光(δとψ)は解りやすく、国標準技術研究所 (NIST) のものと比べても遜色がない。

3．測定装置の較正および測定は科学原理(光の基本特性)に基づく。

4．派生価値の計算は国標準技術研究所 (NIST) が採用している数理モデルに基づく。

5．PSI が設定した基準における公称値は、δとψの値が国標準技術研究所 (NIST) の作成した主要取扱標準物質 (SRM) における値と限りなく近い値になるように選定されている。これにより、公称厚および指標値は国標準技術研究所 (NIST) による一次基準と同じ、あるいは倍数になる。

6．測定値を実用的物理データに変換する概念モデルおよび数理モデルは、国標準技術研究所 (NIST) が定めるものと同じである。

PSI 基準が定める技術基準は、国標準技術研究所 (NIST) と同一あるいはより優れた材料より、同一あるいはより優れた状態で生み出されました。半導体工場サブ “クラス10” において、熱成長させた最高品質P タイプ＜100＞シリコンウエハーから熱成長させた二酸化ケイ素あるいは LPCVD 窒化ケイ素を使用。

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