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PSI 引荐一个新方法,可提供半导体、FPD、奈米科技(nanotechnology)产业运用来校正阶梯高度。这种新的“双阶梯高度的标准片”广泛提供给所有阶梯高度机台在微量厚度校准、监控、与标准化。
双阶梯高度标准片的设计优点是 PSI 在一片标准片上提供两种可追溯 NIST 的校正厚度的阶梯标准片,因此在一定阶梯高度范围内,并不须要加载或设立更多的标准片,就可以完成机台线性校正曲线。
PSI 的双厚度技术足以汰换一般单一厚度的标准片,因此昰一个更实用、更具成本效益的替代方案。这种新的双厚度标准片可提供机械式表面测量仪更精确的 SiO2 高度,也提供镀铬的 SiO2 的二氧化硅在光学及原子力测量仪的应用。
双厚度设计也能加入好用的机台测试结构,可配合针笔之整合、对准、及放大倍率的操作。新的标准片也提供辨识图形以便标准片自动加载时可以对准定位。
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